Premièrement, l’origine de la pulvérisation plasma stabilisée au gaz
La pulvérisation plasma stable au gaz est développée à partir de la pulvérisation plasma stable à l'eau au début, dans la pulvérisation plasma précédente, principalement utilisée par pulvérisation plasma sans transfert, le matériau de pulvérisation est une poudre. De nos jours, la technologie de pulvérisation au plasma s'est développée rapidement, depuis la pulvérisation initiale au plasma stabilisé à l'eau jusqu'à la pulvérisation au plasma stabilisée au gaz.
Deuxièmement, le principe de base de la pulvérisation plasma stable aux gaz
La pulvérisation de plasma stabilisée au gaz consiste principalement à chauffer des gaz inertes (tels que le xénon, l'argon, l'hélium, l'azote, etc.) dans le pistolet pulvérisateur jusqu'à l'état d'ionisation, à l'aide des électrodes positives et négatives de la buse sous tension, le haut- arc de fréquence généré sur les ions du gaz. Les ions gazeux sont mélangés au matériau de pulvérisation pulvérulent et, sous l'action d'un arc à haute fréquence, ils sont éjectés à une vitesse supérieure à Mach 1 et pulvérisés sur le substrat.
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